8 hazbeteko siliziozko oblea P/N motako (100) 1-100Ω 1-100Ω finkoa berreskuratzeko substratua
Ostia kutxaren aurkezpena
8 hazbeteko siliziozko oblea siliziozko substratu-materiala da eta oso erabilia da zirkuitu integratuen fabrikazio-prozesuan.Horrelako siliziozko obleak zirkuitu integratu mota ezberdinak egiteko erabiltzen dira, mikroprozesadoreak, memoria txipak, sentsoreak eta beste gailu elektroniko batzuk barne.8 hazbeteko siliziozko obleak tamaina handi samarreko txipak egiteko erabiltzen dira, eta abantailak dituzte, besteak beste, azalera handiagoa eta txip gehiago egiteko gaitasuna siliziozko oblea bakarrean, produkzio eraginkortasuna areagotuz.8 hazbeteko siliziozko obleak propietate mekaniko eta kimiko onak ditu, eskala handiko zirkuitu integratuetarako egokia dena.
Produktuaren ezaugarriak
8" P/N mota, leundutako siliziozko oblea (25 pcs)
Orientazioa: 200
Erresistentzia: 0,1 - 40 ohm•cm (lote batetik bestera alda daiteke)
Lodiera: 725+/-20um
Prime/Monitor/Test kalifikazioa
MATERIALAREN PROPIETATEAK
Parametroa | Ezaugarria |
Mota/Dopatzailea | P, boroa N, fosforoa N, antimonioa N, artsenikoa |
Orientazioak | <100>, <111> zatitu orientazioak bezeroaren zehaztapenen arabera |
Oxigeno edukia | 1019ppmA Perdoi pertsonalizatuak bezeroaren zehaztapenaren arabera |
Karbono Edukia | < 0,6 ppmA |
PROPIETATE MEKANIKOAK
Parametroa | Lehena | Monitorea/ Proba A | Proba |
Diametroa | 200±0,2 mm | 200 ± 0,2 mm | 200 ± 0,5 mm |
Lodiera | 725±20µm (estandarra) | 725±25µm (estandarra) 450±25µm 625±25µm 1000±25µm 1300±25µm 1500±25 µm | 725±50µm (estandarra) |
TTV | < 5 µm | < 10 µm | < 15 µm |
Arkua | < 30 µm | < 30 µm | < 50 µm |
Itzulbiratu | < 30 µm | < 30 µm | < 50 µm |
Ertzaren biribilketa | ERDIAK | ||
Markatzea | Lehen mailako SEMI-Flat bakarrik, SEMI-STD Flats Jeida Flat, Notch |
Parametroa | Lehena | Monitorea/ Proba A | Proba |
Aurrealdeko Alboko Irizpideak | |||
Gainazalaren egoera | Kimiko Mekanikoa Leundua | Kimiko Mekanikoa Leundua | Kimiko Mekanikoa Leundua |
Gainazalaren zimurtasuna | < 2 A° | < 2 A° | < 2 A° |
Kutsadura Partikulak@ > 0,3 µm | = 20 | = 20 | = 30 |
Haze, Pits Laranja azala | Bat ere ez | Bat ere ez | Bat ere ez |
Zerra, Marks Striazioak | Bat ere ez | Bat ere ez | Bat ere ez |
Atzeko aldean irizpideak | |||
Pitzadurak, bele-oinak, zerra-markak, orbanak | Bat ere ez | Bat ere ez | Bat ere ez |
Azaleren egoera | Kaustikoa grabatua |