8 hazbeteko 200 mm 4H-N SiC oblea Ikerkuntza-mailako simulazio eroalea

Bere propietate fisiko eta elektroniko bereziak direla eta, 200 mm-ko SiC oblearen material erdieroalea erabiltzen da errendimendu handiko, tenperatura altuko, erradiazioarekiko erresistenteak eta maiztasun handiko gailu elektronikoak sortzeko.8 hazbeteko SiC substratuaren prezioa pixkanaka murrizten ari da, teknologia aurreratu eta eskaria hazten doan heinean.Azken teknologien garapenek 200 mm-ko SiC-ko obleak ekoizpen eskalan fabrikatzen dituzte.SiC obleen material erdieroaleen abantaila nagusiak Si eta GaAs obleekin alderatuta: 4H-SiC-ren eremu elektrikoaren indarra elur-jausiaren matxura garaian Si eta GaAs dagozkien balioak baino magnitude ordena bat baino handiagoa da.Honek on-egoeraren erresistibitatearen Ron murrizketa nabarmena dakar.On-egoeraren erresistentzia baxua, korronte dentsitate handiko eta eroankortasun termikoarekin konbinatuta, potentzia-gailuetarako trokel txikiak erabiltzea ahalbidetzen du.SiC-ren eroankortasun termiko handiak txiparen erresistentzia termikoa murrizten du.SiC obleetan oinarritutako gailuen propietate elektronikoak oso egonkorrak dira denboran zehar eta tenperatura egonkorrean, eta horrek produktuen fidagarritasun handia bermatzen du.Silizio karburoa oso erresistentea da erradiazio gogorekiko, eta horrek ez ditu txiparen propietate elektronikoak hondatzen.Kristalaren funtzionamendu-tenperatura mugatzaile altuak (6000C baino gehiago) funtzionamendu baldintza gogoretarako eta aplikazio berezietarako gailu oso fidagarriak sortzeko aukera ematen du.Gaur egun, 200 mm SiC-ko obleak etengabe eta etengabe horni ditzakegu eta biltegian stock batzuk eduki ditzakegu.