SiO2 Film mehea oxido termikoa silizio oblea 4inch 6inch 8inch 12inch

Siliziozko obleak fabrikatzeko prozesu nagusiak urrats hauek izan ohi ditu: silizio monokristalinoa haztea, obleak moztea, leuntzea, garbitzea eta oxidatzea.

Silizio monokristalinoaren hazkuntza: Lehenik eta behin, silizio monokristalinoa tenperatura altuetan hazten da Czochralski metodoa edo Float-zone metodoa bezalako metodoen bidez.Metodo honek siliziozko kristal bakarreak prestatzea ahalbidetzen du, garbitasun eta sarearen osotasun handikoak.

Dadoak: hazitako silizio monokristalinoa forma zilindrikoa izan ohi da eta oblea meheetan moztu behar da obleen substratu gisa erabiltzeko.Mozketa diamante-mozgailu batekin egiten da normalean.

Leuntzea: moztutako oblearen gainazala irregularra izan daiteke eta leunketa kimiko-mekanikoa behar du gainazal leuna lortzeko.

Garbiketa: leundutako ostia garbitzen da ezpurutasunak eta hautsa kentzeko.

Oxidatzailea: azkenik, siliziozko obleak tenperatura altuko labe batean sartzen dira oxidazio tratamendua egiteko, silizio dioxidoaren babes-geruza bat osatzeko, bere propietate elektrikoak eta erresistentzia mekanikoa hobetzeko, baita zirkuitu integratuetan isolatzaile-geruza gisa ere.

Siliziozko obleen erabilera nagusien artean, zirkuitu integratuen fabrikazioa, eguzki-zelulen fabrikazioa eta beste gailu elektroniko batzuen fabrikazioa daude.Silizio oxidozko obleak oso erabiliak dira material erdieroaleen alorrean, propietate mekaniko bikainak, egonkortasun dimentsionala eta kimikoa, tenperatura eta presio altuetan jarduteko gaitasunagatik, baita isolatzaile eta optiko propietate onengatik ere.

Bere abantailen artean, kristal-egitura osoa, konposizio kimiko hutsa, dimentsio zehatzak, propietate mekaniko onak, etab. Ezaugarri horiek egiten dituzte silizio oxidozko obleak errendimendu handiko zirkuitu integratuak eta beste gailu mikroelektronikoak fabrikatzeko bereziki egokiak.