Siliziozko lente estalitako silizio monokristalino estalitako AR islapenaren aurkako filma

Deskribapen laburra:

Estalitako silizio monokristalino lentea purutasun handiko silizio monokristalinoan (Si) oinarritutako elementu optiko funtzional bat da, doitasun optikoko prozesaketa eta estaldura teknologiaren bidez. Silizio monokristalinoak argi-transmisio bikaina du infragorrien bandan (1,2-7μm), eta islapenaren aurkako filma (AR), islapen handiko filma (HR) edo iragazki filma bezalako estaldurekin konbinatuta, banda espezifikoen transmisioa edo islapen errendimendua nabarmen hobetu dezake. Produktuak oso erabiliak dira infragorrien irudietan, laser optikan eta erdieroaleen detekzioan.

Bidali mezu elektronikoa

Produktuaren xehetasuna

Produktuen etiketak

Estalitako siliziozko lentearen ezaugarriak:

1. Errendimendu optikoa:
Transmitantzia-tartea: 1,2-7μm (infragorri hurbiletik infragorri erditik), transmisioa >% 90 3-5μm-ko leiho atmosferikoko bandan (estalduraren ondoren).
Errefrakzio-indize altua dela eta (n≈ 3,4@4μm), islapenaren aurkako film bat (adibidez, MgF₂/Y₂O₃) estali behar da gainazaleko islapen-galera murrizteko.

2. Egonkortasun termikoa:
Hedapen termiko koefiziente baxua (2,6 × 10⁻⁶/K), tenperatura altuko erresistentzia (funtzionatzeko tenperatura 500 ℃ arte), potentzia handiko laser aplikazioetarako egokia.

3. Propietate mekanikoak:
Mohs-en gogortasuna 7, marradura erresistentzia, baina hauskortasun handia, ertzak txaflatzeko babesa behar du.

4. Estalduraren ezaugarriak:
Customized anti-reflection film (AR@3-5μm), high reflection film (HR@10.6μm for CO₂ laser), bandpass filter film, etc.

Estalitako siliziozko lenteen aplikazioak:

(1) Irudi termiko infragorrien sistema
Lente infragorrien oinarrizko osagai gisa (3-5 μm edo 8-12 μm banda) segurtasun kontrola, ikuskapen industriala eta gaueko ikusmen ekipo militarretarako.

(2) Laser sistema optikoa
CO₂ Laser (10,6 μm): lente islatzaile handiko laser erresonatzaileetarako edo izpien zuzendaritzarako.

Zuntz laserra (1,5-2μm): islaren aurkako film lenteak akoplamenduaren eraginkortasuna hobetzen du.

(3) Erdieroaleak probatzeko ekipoak
Objektibo mikroskopiko infragorria obleen akatsak detektatzeko, plasmako korrosioarekiko erresistentea (estaldura-babes berezia behar da).

(4) analisi espektraleko tresnak
Fourier infragorrien espektrometroaren (FTIR) osagai espektral gisa, transmisio handia eta uhin-frontearen distortsio txikia behar dira.

Parametro teknikoak:

Estalitako siliziozko lente monokristalinoa funtsezko osagai ordezkaezina bihurtu da infragorrien sistema optikoko argi infragorrien transmisio bikainagatik, egonkortasun termiko handiagatik eta estaldura pertsonalizagarriengatik. Gure zerbitzu pertsonalizatu espezializatuak lenteen errendimendu onena bermatzen dute laser, ikuskapen eta irudien aplikazioetan.

Estandarra	Prezio Handia
Materiala	Silizioa
Tamaina	5mm-300mm	5mm-300mm
Tamainaren tolerantzia	± 0,1 mm	± 0,02 mm
Irekidura garbia	≥%90	%95
Azalera Kalitatea	60/40	20/10
Zentrazioa	3'	1'
Foku-luzera tolerantzia	±% 2	±% 0,5
Estaldura	Estali gabea, AR, BBAR, islatzailea

XKH Zerbitzu pertsonalizatua

XKH-k estalitako siliziozko lente monokristalinoen prozesu osoa pertsonalizatzea eskaintzen du: silizio monokristalinoaren substratu hautatzetik (erresistibitatea > 1000Ω·cm), prozesaketa optikoa (esferikoa/asferikoa, gainazaleko zehaztasuna λ/4@633nm), estaldura pertsonalizatua (islamenduaren aurkakoa/isladura handia/iragazki-filma), babesteko banda anitzeko diseinua (transmisio-maila zorrotza), laser bidezko kalteen diseinua fidagarritasuna probak), lote txikiak (10 pieza) onartzen ditu eskala handiko ekoizpenerako. Dokumentazio teknikoa (estaldura-kurbak, parametro optikoak) eta salmenta osteko laguntza ere eskaintzen ditu infragorrien sistema optikoen eskakizun zorrotzak betetzeko.