8 hazbeteko SiC hornidura egonkorra epe luzerako oharra

Gaur egun, gure enpresak 8 hazbeteko N motako SiC obleak sorta txikiak hornitzen jarrai dezake. Lagin beharrik baduzu, jar zaitez nirekin harremanetan. Bidaltzeko prest dauden obleak ditugu.

8 hazbeteko SiC hornidura egonkorra epe luzerako oharra
8 hazbeteko SiC-ren epe luzerako hornidura egonkorra oharra1

Material erdieroaleen arloan, enpresak aurrerapen handia egin du tamaina handiko SiC kristalen ikerketan eta garapenean. Diametroa handitzeko hainbat txanda egin ondoren bere hazi-kristalak erabiliz, enpresak 8 hazbeteko N motako SiC kristalak hazi ditu arrakastaz, eta horrek arazo zailak konpontzen ditu, hala nola tenperatura-eremu irregularra, kristalen pitzadurak eta gas-faseko lehengaien banaketa 8 hazbeteko SIC kristalen hazkuntza-prozesuan, eta tamaina handiko SIC kristalen hazkundea eta prozesatzeko teknologia autonomoa eta kontrolagarria bizkortzen ditu. Enpresaren lehiakortasun nagusia asko hobetzen du SiC kristal bakarreko substratuen industrian. Aldi berean, enpresak aktiboki sustatzen du tamaina handiko silizio karburozko substratuen prestaketa-lerro esperimentalaren teknologia eta prozesuen metaketa, truke teknikoa eta industria-lankidetza indartzen ditu goranzko eta beheranzko eremuetan, eta bezeroekin lankidetzan aritzen da produktuaren errendimendua etengabe iteratzeko, eta silizio karburozko materialen aplikazio industrialaren erritmoa elkarrekin sustatzen du.

8 hazbeteko N motako SiC DSP zehaztapenak

Zenbakia Elementua Unitatea Ekoizpena Ikerketa Txantxa
1. Parametroak
1.1 politipo -- 4H 4H 4H
1.2 gainazalaren orientazioa ° <11-20>4±0.5 <11-20>4±0.5 <11-20>4±0.5
2. Parametro elektrikoa
2.1 dopante -- n motako nitrogenoa n motako nitrogenoa n motako nitrogenoa
2.2 erresistentzia ohm ·cm 0,015~0,025 0,01~0,03 NA
3. Parametro mekanikoa
3.1 diametroa mm 200±0.2 200±0.2 200±0.2
3.2 lodiera μm 500±25 500±25 500±25
3.3 Koska orientazioa ° [1- 100]±5 [1- 100]±5 [1- 100]±5
3.4 Koska sakonera mm 1~1.5 1~1.5 1~1.5
3.5 LTV μm ≤5 (10 mm * 10 mm) ≤5 (10 mm * 10 mm) ≤10 (10 mm * 10 mm)
3.6 TTV μm ≤10 ≤10 ≤15
3.7 Arkua μm -25~25 -45~45 -65~65
3.8 Deformazioa μm ≤30 ≤50 ≤70
3.9 AFM nm Ra≤0.2 Ra≤0.2 Ra≤0.2
4. Egitura
4.1 mikrohodi dentsitatea ea/cm2 ≤2 ≤10 ≤50
4.2 metal edukia atomo/cm2 ≤1E11 ≤1E11 NA
4.3 TSD ea/cm2 ≤500 ≤1000 NA
4.4 BPD ea/cm2 ≤2000 ≤5000 NA
4.5 TED ea/cm2 ≤7000 ≤10000 NA
5. Kalitate positiboa
5.1 aurrealdea -- Si Si Si
5.2 gainazalaren akabera -- Si-aurpegiko CMP Si-aurpegiko CMP Si-aurpegiko CMP
5.3 partikula oblea ≤100 (tamaina ≥0.3μm) NA NA
5.4 urradura oblea ≤5, Luzera osoa ≤200mm NA NA
5.5 Ertza
txirbilak/koskak/pitzadurak/orbanak/kutsadura
-- Bat ere ez Bat ere ez NA
5.6 Politipo eremuak -- Bat ere ez Eremua ≤10% Eremua ≤30%
5.7 aurrealdeko markaketa -- Bat ere ez Bat ere ez Bat ere ez
6. Bizkarraren kalitatea
6.1 atzeko akabera -- C-aurpegiko diputatua C-aurpegiko diputatua C-aurpegiko diputatua
6.2 urradura mm NA NA NA
6.3 Atzeko ertzaren akatsak
txirbilak/koskak
-- Bat ere ez Bat ere ez NA
6.4 Bizkarreko zimurtasuna nm Ra≤5 Ra≤5 Ra≤5
6.5 Atzeko markaketa -- Koska Koska Koska
7. Ertza
7.1 ertza -- Txanfla Txanfla Txanfla
8. Paketea
8.1 ontziratzea -- Epi-prest hutsean
ontziratzea
Epi-prest hutsean
ontziratzea
Epi-prest hutsean
ontziratzea
8.2 ontziratzea -- Oblea anitzekoa
kasete-ontziratzea
Oblea anitzekoa
kasete-ontziratzea
Oblea anitzekoa
kasete-ontziratzea

Argitaratze data: 2023ko apirilaren 18a